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產(chǎn)品型號(hào): GMSD2000
所屬分類:研磨分散機(jī)
更新時(shí)間:2024-11-19
簡要描述:SGN氮化物研磨分散機(jī),SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機(jī),是由膠體磨+高剪切分散機(jī)組成,形成一體化的設(shè)備,先研磨后分散,避免物料團(tuán)聚。
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氮化物,氮化物是一類氮的化合物,其中氮顯-3價(jià)。包括金屬氮化物、非金屬氮化物和氨(NH3,氮負(fù)三價(jià)),習(xí)慣上將氨作為一種特殊物質(zhì),不列入氮化物中。金屬氮化物的熱穩(wěn)定性高,可用作高溫絕緣材料。非金屬氮化物的熱穩(wěn)定性也比較高,各具特殊性質(zhì)。六方氮化硼是優(yōu)良潤滑劑;而立方氮化硼硬度大,可用來制車刀、鉆頭等。
氮化物的應(yīng)用和氧化物的應(yīng)用都需要將粉體物料均勻的分散到液體介質(zhì)當(dāng)中,需要進(jìn)行研磨分散細(xì)化,SGN分散設(shè)備采用特殊的內(nèi)部結(jié)構(gòu),將研磨機(jī)和分散機(jī)合二為一,物料可以實(shí)現(xiàn)一步到位的研磨分散處理,氮化物漿料分散采用SGN研磨分散設(shè)備可以獲得均勻的漿料體系,并且物料粒徑一般可細(xì)化至DN90≤1μm。
SGN氮化物研磨分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化結(jié)合,先研磨后分散機(jī),解決團(tuán)聚問題!
GMD2000系列研磨式分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
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GMD2000系列研磨式分散機(jī)的特點(diǎn):
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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以下為型號(hào)表:
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMSD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |