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  • GRS2000墨水納米分散機
    GRS2000墨水納米分散機

    墨水納米分散機是顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當降至1nm時,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。

    更新日期:2024-11-22型號:GRS2000
  • GMSD2000超細粉體分散機
    GMSD2000超細粉體分散機

    超細粉體分散機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體、氣體)進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程。

    更新日期:2024-11-22型號:GMSD2000
  • GMD2000頭孢他啶注射液三級納米分散機
    GMD2000頭孢他啶注射液三級納米分散機

    頭孢他啶注射液三級納米分散機采用德國先進的定轉(zhuǎn)子技術(shù)以及皮帶傳動技術(shù),將德國先進的膠體磨技術(shù)與德國先進的超高速分散機技術(shù)合二為一,設(shè)備即兼顧了高速研磨剪切,又具體了超高速分散、乳化、均質(zhì)等功能。

    更新日期:2024-11-22型號:GMD2000
  • GMD2000垂體后葉注射液高剪切分散機
    GMD2000垂體后葉注射液高剪切分散機

    垂體后葉注射液高剪切分散機采用德國先進的定轉(zhuǎn)子技術(shù)以及皮帶傳動技術(shù),將德國先進的膠體磨技術(shù)與德國先進的超高速分散機技術(shù)合二為一,設(shè)備即兼顧了高速研磨剪切,又具體了超高速分散、乳化、均質(zhì)等功能。

    更新日期:2024-11-22型號:GMD2000
  • GRS2000防水劑管線式三級研磨分散機
    GRS2000防水劑管線式三級研磨分散機

    防水劑管線式三級研磨分散機采用德國先進的定轉(zhuǎn)子技術(shù)以及皮帶傳動技術(shù),將德國先進的膠體磨技術(shù)與德國先進的超高速分散機技術(shù)合二為一,設(shè)備即兼顧了高速研磨剪切,又具體了超高速分散、乳化、均質(zhì)等功能。

    更新日期:2024-11-22型號:GRS2000
  • GMD2000光刻膠拋光液超高速分散機
    GMD2000光刻膠拋光液超高速分散機

    光刻膠拋光液超高速分散機新的結(jié)構(gòu)設(shè)計,將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備,膠體磨磨頭+分散盤定轉(zhuǎn)子,先研磨后分散效果更佳。

    更新日期:2024-11-22型號:GMD2000
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