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  • GMD2000石墨烯涂層漿料高剪切分散機
    GMD2000石墨烯涂層漿料高剪切分散機

    石墨烯涂層漿料高剪切分散機的線速度達21M/S,由3級可調(diào)間隙的錐形定子和4級高速旋轉(zhuǎn)的錐形轉(zhuǎn)子形成研磨模塊,根據(jù)生產(chǎn)要求,剪切研磨間隙可從0.01mm至2mm無級調(diào)速,定轉(zhuǎn)子每一級上的凹槽一級比一級精細,深度,方向的不同增加了流體的揣流。

    更新日期:2024-11-21型號:GMD2000
  • GRS2000石墨烯復合納米銀高剪切分散機
    GRS2000石墨烯復合納米銀高剪切分散機

    石墨烯復合納米銀高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

    更新日期:2024-11-21型號:GRS2000
  • GMD2000碳納米管漿料高剪切分散機
    GMD2000碳納米管漿料高剪切分散機

    碳納米管漿料高剪切分散機具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。

    更新日期:2024-11-21型號:GMD2000
  • GMD2000石墨烯橡膠復合漿料分散機
    GMD2000石墨烯橡膠復合漿料分散機

    石墨烯橡膠復合漿料分散機采用上海思峻技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來GM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。

    更新日期:2024-11-21型號:GMD2000
  • GMD2000石墨烯片層機械剝離分散機
    GMD2000石墨烯片層機械剝離分散機

    石墨烯片層機械剝離分散機可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

    更新日期:2024-11-21型號:GMD2000
  • GMD2000石墨烯水性涂料研磨分散機
    GMD2000石墨烯水性涂料研磨分散機

    石墨烯水性涂料研磨分散機線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。

    更新日期:2024-11-21型號:GMD2000
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